当前位置:首页 > 知识

ASML:现有技术创新足以实现1nm工艺摩尔定律可继续生效十年甚至更长时间

导读 《科创板日报》17日讯,现有现ASML日前表示,技术继续间目前的创新长技术创新足够将芯片制程推进至至少1纳米节点,包括诸多前瞻技术。足实至更此外,艺摩光刻系统分辨率的尔定改进...

《科创板日报》17日讯,ASML日前表示,生效目前的年甚技术创新足够将芯片制程推进至至少1纳米节点,包括诸多前瞻技术。现有现此外,技术继续间光刻系统分辨率的创新长改进(预计每6年左右缩小2倍)和边缘放置误差(EPE)对精度的衡量也将进一步推动芯片尺寸缩小。从整个行业的足实至更发展路线来看,未来十年甚至更长时间内,艺摩技术创新将使摩尔定律继续生效。尔定

生效

分享到:

京ICP备19007577号-5