尼康NSRS636EArF浸入式扫描仪正在开发中将于2023年发布

2021-10-19 15:47:30封阅元导读尼康NSR-S636EArF浸入式扫描仪尼康本周宣布开发其新型NSR-S636EArF浸入式扫描仪，尼康年以提供行业领先的浸入将于光刻解决方案，并使客户能够推进半导体制造并帮助推动数字化转型。式扫下一代NSR-S636EArF浸入式扫描仪目前正在开发中，描仪将提供卓越的正开叠加精度和超高吞吐量，以支持最关键的发中半导体器件的制造，预计将于2023年某个时候开始销售。尼康年NSR-S636EArF浸入式扫描仪。浸入将于随着数

尼康NSR-S636EArF浸入式扫描仪尼康本周宣布开发其新型NSR-S636EArF浸入式扫描仪，式扫以提供行业领先的描仪光刻解决方案，并使客户能够推进“半导体制造并帮助推动数字化转型”。正开

下一代NSR-S636EArF浸入式扫描仪目前正在开发中，发中将提供卓越的尼康年叠加精度和超高吞吐量，以支持最关键的浸入将于半导体器件的制造，预计将于2023年某个时候开始销售。式扫NSR-S636EArF浸入式扫描仪。

“随着数字化转型(DX)的加速，迫切需要非常快速地处理和传达大量数据。高性能半导体对于满足这些要求势在必行，半导体器件技术也在不断发展，同时关注电路图案的小型化和3D(3D)器件结构的开发。”

“NSR-S636E具有增强的在线对准站(iAS)，它是集成在涂布机/显影单元和光刻扫描仪之间的晶片预测量模块。S636E和iAS利用复杂的多点对准测量和高阶校正功能，使设备制造商能够实现3D设备结构所需的严格叠加精度，同时最大限度地提高浸入式扫描仪的生产力。NSR-S636E非常适合尖端半导体制造，包括逻辑和存储设备、CMOS图像传感器应用等。”