逐步淘汰显微镜的逐步技巧

2022-01-30 17:40:00吉佳翠导读KAUST的一项研究报告指出，仪器错误可能导致某些晶体的淘汰完全错误识别，这表明研究人员在使用电子显微镜探测二维(2-D)半导体时需要格外小心。显微

KAUST的镜的技巧一项研究报告指出，仪器错误可能导致某些晶体的逐步完全错误识别，这表明研究人员在使用电子显微镜探测二维(2-D)半导体时需要格外小心。淘汰

2-D过渡金属二卤化物(TMD)正在开发用于新的显微电子设备，因为它们可以以几种晶相存在，镜的技巧其性能范围从半导体到金属。逐步研究人员使用多种工具来揭示不同TMD相中的淘汰结构-特性关系，但最关键的显微方法之一是扫描透射电子显微镜。该仪器能够分辨表面上的镜的技巧原子并使用图像对比度的变化化学识别它们。

KAUST的逐步Vincent Tung研究小组的材料科学家Areej Aljarb最近发现由二硫化钼(MoS 2)制成的TMD 时，发现了一些令人不安的淘汰东西，因此在表征这些材料时。显微尽管最初的光谱分析表明她已经生产了半导体二维薄膜，但透射电子显微镜图像表明MoS 2已排列成金属晶相。

为了解决这种差异，研究小组寻求了显微镜专家Sergei Lopatin的帮助。他们在一起发现，当它们与TMD表面接触时，来自最先进仪器的电子束会产生不同寻常的强度模式。光束的强度轮廓不是预期的球形，而是三角形。洛帕汀指出：“这清楚地证明了一个像散问题，即像散问题。”

用于聚焦电子显微镜光束的透镜总是包含一些小的瑕疵，这些瑕疵会模糊图像，尤其是在原子级分辨率下。研究小组意识到观察到的像散效应可能会影响表面上出现的原子的对比度。通过将MoS 2 表面的计算机模拟与实验显微镜相关联，他们发现了几种情况，在这种情况下，由于硫原子在成像过程中会改变外观，甚至消失，因此可能会误判晶相。

董说：“原子对比可以推断晶相，但是这些伪像侵蚀了这种预测的基础。” “这增加了可能已经为散光产生不利影响的2-D TMD的许多图像的可能性。”

在包括石墨烯在内的其他二维表面上进行的实验证实，在多种材料中都可以观察到假相。研究人员证明，通过使用电子几乎在能量上均等的电子束，可以减轻这些影响。

“扫描透射电子显微镜在二维材料的晶体结构成像中具有不可估量的价值;但是，我们需要意识到成像伪影，因为忽略它们可能会导致科学上的错误说法，” Aljarb说。

该研究发表在《科学进展》上。